2019 液晶器件制造工艺(无锡科技职业学院) 最新满分章节测试答案

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本课程起止时间为:2019-02-27到2019-07-05
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第1周液晶器件制造工艺及工艺环境单元测试1 液晶器件制造工艺及工艺环境（第1周）

1、问题:关于液晶器件生产五大阶段排序正确的是（）
选项：
A:光刻-灌注-取向-制盒-检测
B:光刻-制盒-灌注-取向-检测
C:光刻-取向-灌注-制盒-检测
D:光刻-取向-制盒-灌注-检测
答案: 【光刻-取向-制盒-灌注-检测】

2、问题:液晶显示器生产过程中，对产品质量影响较大的环境因素不包括（）
选项：
A:尘埃
B:温度
C:光照度
D:湿度
答案: 【光照度】

3、问题:保持洁净度的正确方法不包括（）
选项：
A:减少洁净室中的尘源
B:杜绝室外尘粒进入
C:净除生产环境中的尘粒
D:减少工艺步骤
答案: 【减少工艺步骤】

4、问题:洁净空气从整个顶棚垂直向下运动，地面呈网格状作为回风口，这种洁净室属于（）
选项：
A:紊乱式洁净室
B:水平平行流式洁净室
C:垂直平行流式洁净室
D:不确定
答案: 【垂直平行流式洁净室】

5、问题:如果净化工作台布置在每升空气含3500颗0.5μm的尘粒的洁净室中，通过其送出的每升空气的含尘量为1颗0.5μm的尘粒，则净化工作台过滤器的效率为（）
选项：
A:99.97%
B:95%
C:85%
D:90%
答案: 【99.97%】

6、问题:为了保证洁净室内的环境符合规定要求，所有室内的设备物品的材料应选用产尘少的材质，下列不能采用的是（）
选项：
A:不锈钢
B:塑料‍
C:普通纸张
D:玻璃
答案: 【普通纸张】

1、问题:采用负性胶进行光刻，所得笔段图形与掩模板图形相比（）A横向及纵向变窄 B横向或纵向变窄 C横向及纵向变宽 D横向或纵向变宽
评分规则: 【 C
】

1、问题:清洗与干燥工艺在液晶显示器生产过程中（）
选项：
A:在多个工艺环节中实施
B:在全部生产开始阶段实施
C:在全部生产结束阶段实施
D:在每个工艺环节中实施
答案: 【在多个工艺环节中实施】

2、问题:清洗后的玻璃必须经过干燥处理，目前常采用的方法有烘干法、甩干法、有机溶剂脱水法和风刀吹干法等，通过离心干燥器来达到干燥玻璃表面的目的是（）
选项：
A:烘干法
B:甩干法
C:有机溶剂脱水法
D:风刀吹干法
答案: 【甩干法】

3、问题:高纯水制备过程中使用到的离子交换树脂主要是为了去除普通水中的（）
选项：
A:泥沙
B:有机物
C:杂质离子
D:微生物
答案: 【杂质离子】

4、问题:透明导电玻璃的ITO膜的厚度范围为（）
选项：
A:250-1000纳米
B:200-500微米
C:0.5-1毫米
D:1-5毫米
答案: 【250-1000纳米】

5、问题:光刻胶的最小曝光量（）
选项：
A:与照射光强度成正比
B:与曝光时间成正比
C:取决于光刻胶的感光度
D:取决于光刻工艺设备及工艺条件
答案: 【取决于光刻胶的感光度】

6、问题:光刻工艺中“涂胶”的是（）
选项：
A:在玻璃表面涂光刻胶
B:在边框处涂封框胶
C:在灌注口涂封口胶
D:在引线连接部位涂银点胶
答案: 【在玻璃表面涂光刻胶】

7、问题:前烘过程中如果烘烤过度会出现（）
选项：
A:光刻胶被溶除
B:光刻胶浮胶
C:光刻胶大面积脱落
D:光刻图形留有底膜
答案: 【光刻图形留有底膜】

8、问题:决定曝光条件的因素中不包括（）
选项：
A:ITO玻璃的性质
B:光刻胶的性质
C:光刻掩模板的质量
D:光源的强弱
答案: 【ITO玻璃的性质】

9、问题:显影工艺的主要目的是（）
选项：
A:去除全部光刻胶，产生ITO图形影像
B:去除已反应的光刻胶，产生可见影像
C:去除已腐蚀的ITO，产生可见影像
D:去除光刻掩模板，产生光刻胶图形影像
答案: 【去除已反应的光刻胶，产生可见影像】

10、问题:光刻过程中需要进行一次坚膜的原因是（）
选项：
A:防止掩模板与玻璃出现位错
B:保证ITO膜与玻璃的良好粘接
C:促使光刻胶由流体状态迅速固化
D:重新牢固光刻胶与玻璃的粘接
答案: 【重新牢固光刻胶与玻璃的粘接】

11、问题:去膜工艺中的“膜”是指（）
选项：
A:ITO膜
B:二氧化硅层

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